가 국내 최대 규모의 반도체 산업 전시회인 세미콘코리아(SEMICON Korea) 2015에서 자체 기술력으로 개발한 반도체 제조 핵심 공정용 필터를 선보였다고 4일 밝혔다.
시노펙스는 이번 전시회에서 반도체 제조 핵심 공정인 화학기계적연마(CMP)에 적용되는 POU (Point Of Use)필터와 중앙화학물질공급시스템에 적용되는 CCSS 필터를 선보이며, 반도체 분야 초정밀 여과용 필터 시장을 집중 공략하고 있다.
기존 반도체 공정에 적용되는 초정밀 여과 필터의 처리용량을 3배 이상 증가시킨 대용량 제품과 차세대 소재를 적용한 PES 필터 제품도 선보였다.
시노펙스는 지난 2014년 6월 삼성반도체에 1차 협력업체로 등록되며, 반도체 제조 핵심공정용 필터 납품을 진행 중이다.
그동안 국내 반도체 산업은 미세화 되고 있는 반도체 특성으로 인해 제조 공정에 사용되는 필터는 높은 신뢰성과 품질이 확보된 고가의 외산 기업의 제품을 사용하고 있었다.
시노펙스는 20여년의 액체여과용 필터 분야의 연구개발을 통해 0.2~3마이크로(um) 크기로 필터의 기공을 균일하게 만드는 기술력을 확보하며, 반도체 핵심공정에 적용되는 필터의 국산화에 성공한 것으로 기술력과 가격경쟁력을 바탕으로 반도체 등 초정밀 여과 시장을 집중 공략하고 있다.
시노펙스에서 필터사업을 총괄하고 있는 이형일 전무는 “차체 기술력으로 개발한 반도체 핵심 공정용 필터를 통해 국내 반도체 산업의 원가절감에 기여하겠다”고 전하며,“자동차, 디스플레이, 바이오시밀러, 제약 등 다양한 산업에 적용되는 고성능 필터의 국산화를 통해 세계적인 멤브레인 필터 전문 기업으로 도약하겠다” 고 포부를 밝혔다.
한편, 세미콘코리아 2015는 4일터 6일까지 서울 COEX에서 개최되는 국내 최대 규모의 반도체 산업 장비 전시회로 전세계 20개국 500여 업체가 참가하는 행사다.
전필수 기자 philsu@asiae.co.kr
<ⓒ세계를 보는 창 경제를 보는 눈, 아시아경제(www.asiae.co.kr) 무단전재 배포금지>
