삼성전자는 화성사업장에 EUV 전용 라인인 ‘V1 라인’을 본격 가동하고 7나노 이하의 차세대 파운드리 제품 들을 주력으로 생산할 계획이다

삼성전자는 퀄컴, 바이두 등 대형 팹리스(반도체 회로 설계)기업과 협력을 추진하며 모바일부터 HPC 분야까지 파운드리 영역을 확대해 나가고 있다.

삼성전자의 첫 번째 EUV 전용 ‘V1 라인’으로 7나노 이하의 생산 규모로 2020년 말 기준 전년 대비 약 3배 이상 확대될 것으로 예상된다.

EUV 노광 기술은 짥은 파장의 극자외선으로 7나노 이하 초미세 공정을 구현한다. 이는 고성능 저전력 반도체를 만드는 필수적인 기술로 회로를 새기는 반복 작업하는 멀티 매터닝 공정을 줄일 수 있어 성능과 수율이 향상되고 제조시간을 단축 할 수 있다.

삼성전자는 2019년 4월 업계 최초로 EUV 공정을 적용한 7나노 SoC 제품을 출하한 데 이어, 2019년 하반기 6나노 제품 양산 및 5나노 제품 설계를 완료했다. 2020년 상반기 4나노 공정 개발을 완료하고 하반기 제품 설계도 마칠 계획이다.

시스템반도체 산업 생태계 강화를 위한 ‘SAFE’ 프로그램 등을 통해 국내 중소 팹리스 반도체 업체들과의 상생 협력을 지속 추진하고 있다.

[팍스경제TV 김경욱 기자]

김경욱 기자 woogi2k@outlook.com 다른기사 보기